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進入歷經4年土污整治 台南首例含氟有機溶劑整治場址解除列管
環境部今（15）日公告位於統懋半導體公司台南新市廠的土壤及地下水污染整治場址解除列管，此為台南首例含氟有機溶劑整治場址解除列管。（環境部提供）
〔記者陳嘉怡／台北報導〕歷經4年土壤及地下水污染整治，環境部今（15）日公告位於統懋半導體公司台南新市廠的土壤及地下水污染整治場址解除列管，完成土地活化面積約2萬平方公尺。這也是台南首例含氟有機溶劑整治場址解除列管。
環境部土污基金管理會副執秘王禎指出，台南市環保局於105年辦理新市工業區土壤及地下水污染調查工作時，發現統懋半導體公司新市廠區的土壤及地下水受到有機溶劑污染，判斷可能是由於該工廠於民國70年代設立，設備及管線老舊，導致製程中有機溶劑外洩。
台南市環保局依「土壤及地下水污染整治法」規定，107年3月公告為土壤及地下水污染控制場址；由於污染濃度及範圍對環境影響皆偏高，環境部同年8月公告為土壤及地下水污染整治場址，加強土污整治。
王禎表示，統懋半導體公司新市廠歷經4年整治，花費整治金額達2千6百萬元，去年7月經台南環保局進場驗證，結果顯示土壤污染物「順-1,2-二氯乙烯」，地下水污染物氟鹽、氯乙烯、「1,1-二氯乙烯」、「順1,2-二氯乙烯」、三氯乙烯的濃度均低於土壤及地下水污染管制標準，因此解除土壤及地下水污染整治場址列管，比整治計畫原訂改善期程提早2年完成污染改善作業，土地活化面積約2萬平方公尺。
王禎表示，統懋半導體公司新市廠是台南首處解除列管的含氟有機溶劑整治場址，目前台南境內和有機溶劑污染相關的土壤及地下水污染整治場址還剩下60處，其中含氟有機溶劑整治場址僅剩仁德區一處工廠。
