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南韓晶片設備製造商FST自2010年以來一直在開發EUV相關設備，並獲得三星持股投資。（取自FST官網）
吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕荷蘭ASML獨家供應極紫光光EUV曝光設備眾所皆知，而南韓一家晶片設備製造商FST自2010年以來一直在開發EUV相關設備，並獲得三星電子430億韓元的投資，也正加速EUV生態系設備及零件的在地化生產。
三星電子、台積電、英特爾等都競相爭取ASML供應高數值孔徑（NA） EUV設備，這被認為是下一代EUV設備和2奈米以下製程的關鍵設備。據了解，EUV製程不僅在系統半導體中引入，而且在DRAM前端製程中也已採用，三星電子和SK海力士都在使用EUV設備向早期的10奈米DRAM製程進行轉換。
加速EUV生態系設備及零件在地化生產 三星持股投資
因此，FST多年以來一直在開發EUV相關設備，並提供EUV防護膜附著和分離設備、檢查等設備。在EUV生態系統中，FST是一家韓國本土半導體設備公司，在EUV曝光製程中使用的本土設備和零件生產方面處於領先地位。
2021年，三星電子向FST投資430億韓元用於技術開發合作，根據去年第三季報告，三星電子擁有FST 7%的股份。
FST 總經理Jeong說：「隨著EUV相關製程生態系統的蓬勃發展，我們已開始與主要客戶合作開發用於EUV的設備。」他補充道，「隨著製程本身變得更加先進，對EUV的需求也越來越大」；「裝備已經多樣化，我們已做到目前的完整裝備陣容」。
Jeong表示，EUV相關設備的國產化成功的原因在於開發「薄膜」的競爭力。他說：「由於我們長期以來一直在自行開發薄膜，因此我們能夠開發與薄膜相關的設備」。
FST 還開發可以檢查EUV掩模圖案上的顆粒的宏觀檢查設備。FST也正在準備應對隨著製程過渡到「高數值孔徑（高NA）」而發生的變化對策。晶圓代工產業供應高NA設備的競爭正加劇，而高NA設備是ASML最近發布的下一代EUV設備，被認為是2奈米製程的關鍵設備。
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