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專家認為，中國使用舊設備製造先進晶片，面臨諸多挑戰。（示意圖，路透）
陳麗珠／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕美國對中國晶片禁令不斷收緊，中國中芯國際過去幾個月似乎持續向高階晶片邁進。不過，外媒認為，中國想實現晶片自給自足仍面臨一些重大挑戰，尤其是中芯無法買到艾司摩爾（ASML）EUV曝光機，僅能使用舊設備製造先進晶片，勢必面臨成本高及良率低等2大挑戰，長期可行性存疑。
CNBC報導，專家認為，如果沒有 EUV曝光機，中芯將很難製造7奈米及更小的晶片，若能生產，成本也很高。
報導指出，中芯使用舊設備製造先進晶片面臨兩大挑戰，一是成本高，二是良率低、產量少。金融時報日前也引述消息人士的話稱，中芯5奈米和7奈米製程晶片價格，比台積電高出40% 至50%。
印度智庫Takshashila副所長科塔斯坦（Pranay Kotasthane）表示，中國政府與中芯應該會對先進晶片製程投入資金，隨著新一代先進晶片的推出，成本將持續上升，除非中芯能夠獲得一台 ASML EUV曝光機。
科塔斯坦說，中芯或許會投入更多資金來克服當前的利潤率問題，這項投資可能來自政府，因為此事攸關國家威信。不過，每當新一代晶片問世，中芯承擔的成本只會更高。除非中國找到 EUV 的替代品，否則成本會不斷增加。
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