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光阻液。（記者洪友芳）
光阻液或光阻（Photo Resist, PR）是半導體生產晶圓重要微影製程中，需用到的一種精細敏感的高科技感光化學混合材料。微影製程類似攝影跟印刷，要將設計的元件電路圖案成形於光罩上，透過定位曝光機顯影後，再轉移到晶圓的表面層，此轉移過程，晶圓上要先塗佈一層光阻，經曝光後光阻的被曝光區域會起化學變化，再由顯影將電路圖案記錄在光阻層上，透過蝕刻後準確印到晶圓的表面層，光阻便可功成身退地去除。
光阻液佔晶圓生產相當大的費用比重，依晶圓尺寸或製程等需用到光阻的解析度、曝光能量、膜厚與抗蝕刻力等性能不同而價格有別，1公斤從幾千元到幾萬元不等，比陳年老酒還貴，業界形容8吋晶圓用的光阻液價格約跟金門陳年高粱酒差不多行情，先進製程用的光阻液約比金門陳高貴逾10倍。
（記者洪友芳）
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