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ASML本週開始向英特爾運送高數值孔徑曝光機設備。（取自ASML網站）
〔記者吳孟峰／綜合報導〕荷蘭晶片設備製造商ASML宣布，已開始向英特爾運送半導體業最新款的極紫外線（EUV）曝光機設備零件。外媒報導，英特爾將利用此設備打造18A晶片製程，提前部署2奈米製造，使其有機會領先競爭對手台積電和三星。
ASML本週開始向英特爾運送的高數值孔徑0.55（High-NA）EUV曝光機設備，該裝置將從荷蘭費爾德霍芬運往美國俄勒岡州希爾斯伯勒附近的英特爾D1X工廠，並在未來幾個月內安裝完成。這台大型機器需要13個巨大的貨櫃和250個木板箱才能運輸裝載。
高數值孔徑技術預計將在2奈米級後製程技術中發揮重要關鍵作用。英特爾將使用該設備進行18A製程技術，預計2025年開始部署商業級Twinscan EXE:5200，並進行大批量的晶片製造。
由於高數值孔徑曝光設備與低數值孔徑曝光機之間存在許多差異，需要對基礎設施進行大量更改，因此英特爾領先台積電和三星幾個季度部署Twinscan EXE， 對英特爾來說可能是一個巨大的優勢。
綜合外媒指出，這項技術對兩家公司都具有巨大意義，英特爾執行長季辛格早前表示，英特爾公司將獲得第一台這種新型機器，表明英特爾重返製造技術前端的承諾。就ASML而言，推出這項新技術目標是保持晶片產業對該公司設備的依賴。ASML週四在社交媒體X上發布一篇文章中示：我們很高興也很自豪能夠向英特爾交付我們的首個高NA EUV系統。
Oddo BHF分析師在本月稍早的報告中表示，ASML的第一款高數值孔徑極紫外曝光機名為Twinscan EXE:5200，定價約為2.5億歐元（台幣86億元）。分析師還指出，第二代高數值孔徑EUV機器被稱為 EXE:5200B，將具有更高的生產率，價格將超過3.5億歐元（台幣120億元）。ASML目前的高階機器售價約為1.8億美元（台幣56億元）。
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