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首次上稿 09-10 22:55
更新時間 09-11 06:18
美國全面圍剿中國半導體產業，遏制中國邁向先進製程。（圖取自微博）
〔財經頻道／綜合報導〕知名半導體研究顧問SemiAnalysis 分析師向半島電視台透露，中芯國際工程師自爆，中國自行開發的 DUV曝光機問題一推，目前根本沒有製造出功能良好的DUV曝光機。此話等於打臉之前傳出中國上海微電子即將量產28奈米 DUV的訊息。
《半島電視台》披露中國大煉「芯」被美國圍剿的現狀。文章指出，美國近期出手多項措施，遏制中國半導體發展先進製程，除了晶片法案鼓勵企業在美設廠外，並限制取得補助的企業，10年內不得於中國建造新廠或是擴充低於28奈米的先進製程。
緊接著，美國商務部上個月宣布禁止對中國出口用於3奈米以下製程的EDA軟體；上週則限制GPU雙雄超微（AMD）、輝達（NVIDIA）高階人工智慧（AI）晶片出貨中國。
對此，《晶片大戰》（Chip War: The Fight for the World’s Most Critical Technology一書作者 Chris Miller 認為，美國正試圖加強其在世界半導體生態系統中的核心作用，並確保中國無法生產最尖端的晶片。因為掌控半導體不僅將塑造世界經濟的未來，同時也軍事實力的基礎。
報導指出，半導體已成為美中最激烈的戰場之一，不僅是現代經濟的命脈，還被視為未來技術突破的關鍵，這意味著未來全球力量平衡可能取決於正在開發的晶片。
對於日前傳出中芯國際在7奈米製程獲得進展，半導體研究顧問SemiAnalysis 分析師 Dylan Patel 表示，這的確是巨大突破，但缺少一些功能，他們（中芯）需要逐步改進設計，並將生產規模擴大到更高價值的晶片。
而生產更高階晶片需要荷商ASML的EUV曝光機，現階段在美國遊說下，ASML並未出貨EUV給中國，因此中國轉而積極囤積DUV，光是去年就狂掃81台。傳出中國就是使用DUV來製造高端晶片。
對此，Patel 指出，中芯國際工程師自己洩露了這些機器容易出現問題的投訴，中國並未製造出功能良好的 ArF 曝光機。並強調，中國使用外國設備製造晶片的技術落後很多年，其國產設備更是落後外國幾十年。
工研院產業科技國際策略發展所研究總監楊瑞臨（Ray Yang） 也說，中芯國際可以使用 DUV 製造 7奈米晶片，但良率非常低，也不具成本優勢。當前因華為不能找外國代工廠，中國嚴重依賴中芯生產其急需的晶片，可能用於「非商業性的特殊用途」。
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