晴時多雲

遭美制裁 中芯坦言:先進工藝研發有重大不利影響

2020/12/20 20:03

〔中央社〕被美國商務部列入制裁實體清單後,中國晶片製造商中芯國際今晚坦承,對10nm(奈米)及以下先進工藝的研發及產能建設有「重大不利影響」。業內人士也指這等於幾乎卡死中芯研發先進製程。

中芯國際20日晚間公告稱,公司被列入實體清單(Entity List)後,供應商須獲得美國商務部的出口許可才能向公司供應;對用於10奈米及以下技術節點(包括極紫外光技術)的產品或技術,美國商務部會採取「推定拒絕」(Presumption of Denial)的審批政策進行審核;同時中芯為部分特殊客戶提供代工服務也可能受到一定限制。

中芯國際並稱,經初步評估,該事項對公司短期內運營及財務狀況無重大不利影響,對10奈米及以下先進工藝的研發及產能建設有重大不利影響,公司將持續與美國政府相關部門進行溝通,並視情況採取一切可行措施,積極尋求解決方案,力爭將不利影響降到最低。

中芯是中國大陸最大的晶片代工企業,也是目前唯一正在研發7奈米先進製造工藝的代工廠。

陸媒財經雜誌19日引述多名晶片代工行業人士稱,此舉對中芯國際最大的影響是先進製程的推進,對於成熟工藝業務的影響不大。另外,由於中芯國際14奈米以下先進製程產品的占比很小,營收主要來自成熟製程,因此對營收影響有限。

根據中芯國際2020年第3季財報,該公司主要營收來自0.15∕0.18奈米、55∕65奈米以及40∕45奈米製程;14∕28奈米製程僅占14.6%。

報導指出,中芯國際目前的製程推進到N+1(介於10奈米和7奈米之間),並已實現小批量產,預計2022年實現N+2量產,但由於EUV光刻機(極紫外光刻機)遲遲無法到位以及沒有共同推進的大設計廠商,難以推進。

雖然EUV光刻機的生產商為荷蘭艾司摩爾(ASML)公司,但光刻機中的零部件和技術大都來自美國。這些涉及到10納米以下的技術和設備,將被拒絕出口。

報導引述一名在晶片代工行業有將近30年經驗的研發人員說,除了光刻機之外,涉及到10奈米以下技術與製造的機台、物料、零組件、EDA(電子設計自動化)等,也「幾乎卡死了」。

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