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佳能開發的新奈米壓印曝光設備，將為小型半導體製造商生產先進晶片開闢另一條道路。（取自佳能官網）
〔財經頻道／綜合報導〕佳能開發的新奈米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）曝光設備，將為小型半導體製造商生產先進晶片開闢另一條道路，並與荷商ASML的極紫外光曝光機（EUV）競爭。佳能首席執行長御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，奈米壓印機具售價將比ASML的EUV低1位數（one digit less），他也指出，基於出口制裁限制，這些機器可能無法運銷到中國。
佳能計劃將新晶片製造設備的定價降低，尋求進軍目前在中美科技競爭中發揮核心作用的尖端設備。目前第三次擔任佳能總裁的禦手洗表示，新奈米壓印設備價格將比ASML的EUV低一位數，最終定價尚未決定。
ASML是EUV工具的唯一供應商，是世界上最先進的晶片製造機器，每台價值數億美元。只有少數現金充裕的公司有能力投資這些工具，而這些工具目前因在科技供應鏈中的關鍵地位而受到審查。在美國向盟友施壓以限制技術流向北京，ASML也被禁止向中國客戶出口EUV系統。
佳能上個月上市的奈米壓印設備帶來業界新希望。不過，東京的晶片製造出口限制已於7月擴大，但沒有明確提及奈米壓印技術是否也受到限制。
御手洗表示，佳能可能無法將這些機器運送到中國。他說：「我的理解是，任何超過14米技術的出口都是被禁止的，所以我認為我們無法對中國銷售」。
日本經濟產業省的一位官員也表示，他無法評論出口限制將如何影響特定公司或產品。
自今年年初以來，佳能股價已上漲27%；競爭對手尼康在曝光工具方面雖落後於ASML，但股價也上漲了24%。
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