粉絲團
佳能公司已開始銷售奈米壓印（Nanoimprint lithography）半導體製造設備。（路透）
〔財經頻道／綜合報導〕日本佳能公司已開始銷售奈米壓印（Nanoimprint lithography）半導體製造系統設備，試圖與業界領導者荷商ASML和日商Nikon競爭，搶佔半導體製造工具市佔率。
佳能新型晶片製造機可以使用極紫外微影 （EUV） 生產相當於5奈米規模的電路，EUV由行業領導者ASML主導。佳能在周五（13日）的聲明中表示，預計其設備將透過改進達到下一代 2nm生產。與國內同行Nikon一樣，佳能在EUV競賽中遠遠落後ASML，但其奈米壓印方法可能有助其縮小差距。
奈米壓印曝光長期以來一直提供光學曝光的低成本替代方案，並且過去曾由記憶體製造商SK 海力士和東芝公司推廣。這些機器繞過傳統的曝光技術，直接將電路圖案壓印到矽晶圓上。東芝前記憶體部門Kioxia Holdings Corp. 之前測試過佳能的納米壓印機，確認已達到商業成熟度。佳能現在證明它已經解決困擾的高缺陷率等問題。
佳能於2014年收購奈米壓印先驅Molecular Imprints Inc.，並花了近十年的時間研究該技術。作為台積電的供應商，佳能正在東京北部的宇都宮建設20年來第一座曝光設備新工廠，預計將於2025年投入生產。
日本配合美國去年10月7日的禁令，在今年7月23日開始，已經針對23項14-16奈米以下的技術和材料設限，出口都需申請許可，佳能此技術號稱能做到5奈米、甚至未來更先進，一般認為不可能會獲准賣中國
受日本股市大規模上漲以及人工智慧應用帶來的晶片製造設備需求提振的推動，佳能股價今年以來已上漲26%。
一手掌握經濟脈動 點我訂閱自由財經Youtube頻道
不用抽 不用搶 現在用APP看新聞 保證天天中獎 點我下載APP 按我看活動辦法
