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儘管美國升高出口規範，中國半導體公司仍能大幅進口艾司摩爾的曝光機。（路透）
〔編譯魏國金／綜合報導〕南華早報報導，美國十月中旬宣布進一步升高對中國先進半導體設備的出口禁令，新規於十一月生效，但十一月中國從荷蘭進口的關鍵深紫外光DUV微影設備的金額年增一○五○％，顯示中國半導體公司尚未完全被阻斷獲取某些先進製造設備。
微影設備來自艾司摩爾
報導說，上月中國進口十六台荷蘭微影設備，價值達七．六二七億美元，是去年十倍之多。與十月相較，則是從荷蘭進口二十一台微影設備，金額六．七二五億美元，平均每台價差四十六％，顯示中企可持續取得更先進的曝光系統；荷蘭是微影設備最大出口國，幾乎所有都來自艾司摩爾（ASML）一家公司。
中國十一月共進口四十二台微影設備，總額八．一六八億美元，當中十五台來自日本。儘管多年來北京推動技術自立，但截至二○二一年，中國晶圓廠使用的微影設備不到五％是中國製造。
日本與荷蘭今年一月同意加入美國對中國的出口管制後，相繼公布自己的晶片設備出口管制。美國十月公布的新版管制規範，撤銷適用於特定深紫外光機（DUV）的「微量原則」，該原則讓美國政府對產品包含至少二十五％美國原始技術的非美國公司擁有管轄權。
推測去年底取得許可
SemiAnalysis首席分析師帕特爾指出，「多數中國晶圓廠仍能從艾司摩爾購買DUV，中芯國際也可以，只有其上海廠不行」。柏林科技政策智庫新責任基金會（SNV）主任克萊恩漢斯說：「銷售不會立即下降，因為今年十一月出貨的設備，很可能在去年底或今年初取得許可。」
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