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台積電將於2024年引進最強EUV曝光機（資料照）
〔記者洪友芳／新竹報導〕台積電2022年技術論壇由北美場於當地時間16日揭開序幕，台積電研發資深副總經理米玉傑在論壇中指出，台積電將於2024年引進高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）曝光機，以協助客戶推動創新；因這項設備是艾司摩爾（ASML）最先進的微影設備，英特爾先前曾宣稱率先取得設備，預計2025年量產，台積電雖未說明量產時程，但這次首度談及引進時程，引起關注。
根據路透社報導，台積電業務開發資深副總經理張曉強說明，台積電2024年還不準備運用新的高數值孔徑EUV設備來生產，主要使用目的是跟夥伴進行研究。
曝光機是半導體先進製程決戰關鍵，EUV設備更是荷商艾司摩爾 （ASML） 獨家生產，市場估計ASML的高數值孔徑 EUV曝光設備，每套售價高達3億美元（約新台幣近90億元），將只有台積電、三星、英特爾3家大廠是買家，誰先採用受業界關注。
英特爾於今年初宣布該公司已向ASML購買第1台規格型號TWINSCAN EXE:5200系統設備，這是具備High-NA的極紫外光（EUV）大量生產系統，每小時具備200片以上晶圓產能。英特爾將於2025年開始以高數值孔徑EUV進行生產製造。
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