中國兩大半導體業者已先後從荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）訂購兩台高階EUV（極紫外線）微影機台。（法新社）

〔記者高嘉和／台北報導〕中國中芯及長江存儲等半導體業者大手筆砸錢向艾司摩爾（ASML）訂購高階EUV微影機台；國內半導體業者直言，台積電、三星及英特爾等全球三大半導體業者，早在ASML開發EUV設備階段就已參與，ASML可說是為這些半導體大咖「量身訂作」，中國業者在製程還遠遠落後下，砸大錢買先進製程設備，會不會用？該怎麼用？都是問題，研判除「宣示」企圖心外，也不排除因伸手向中國政府要錢，總得報帳交差。

台灣業者分析，EUV微影機台能夠加工到現有雷射光微影技術不易達到的廿奈米以下精密製程；隨著技術層次不同，EUV微影機台的每台要價可從七千餘萬美元到上億美元；包括台積電及三星為爭奪下一代製程技術領先，傳早向ASML預購十台及六台最新的高階EUV機台，力拚五奈米以下關鍵技術。

業者指出，相較台積電與三星早在力拚七奈米，搶著導入EUV機台及後段先進封裝，中芯還在改善廿八奈米製程良率，長江存儲還只是小幅量產卅二層六十四Ｇ記憶體，是否有「必要」砸大錢購置高階EUV微影機台，令人存疑；「可能是錢來得容易、多到沒處花吧？」

還有業者直言，半導體工業從應用晶片氧化層成長、微影技術、蝕刻、清洗、雜質擴散、離子植入及薄膜沉積等技術，所須製程多達三百多個步驟，「做的出來不算難、良率高才是真本事」，這也就是為何台積電能維持領先地位的關鍵，中企想光靠砸大錢買新進設備，就妄想快速複製台積電、三星，那恐怕還差得很遠。

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