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進入突破「瓦聖納」封鎖 中買晶片核心機台
中國兩大半導體業者長江存儲及中芯國際，已先後從荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）訂購兩台高階EUV（極紫外線）微影機台。（法新社）
長江存儲購買ASML EUV微影機 已運抵武漢
〔編譯盧永山／綜合報導〕根據中國「每日經濟新聞網」及日本「日經新聞」報導，中國兩大半導體業者長江存儲及中芯國際，已先後從荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）訂購兩台高階EUV（極紫外線）微影機台，總價值人民幣十二億元（約五十六億台幣），突破「瓦聖納協議」封鎖。
全球四十國在一九九六年簽署「瓦聖納協議」，禁止向非締約國出口敏感的高科技技術；EUV是生產大型積體電路的核心設備，對晶片精密度有決定性的影響，而從荷蘭電子巨擘飛利浦獨立出來的ASML，其高階EUV的全球市占率高達九十％。
中芯訂購 預計明年交貨
報導指出，長江儲存向ASML訂購的EUV機台已運抵武漢，價值七二○○萬美元；中芯國際也向ASML訂購一台EUV，價值達一．二億美元，預計二○一九年交貨。長江儲存是紫光集團與中國國家積體電路產業投資基金（俗稱大基金）、湖北科投等於二○一六年合資成立；中芯國際在兩千年成立，是目前中國最大的半導體業者。
「日經新聞」指出，中國兩大半導體業者向ASML訂購高階EUV，凸顯該國想快速提升國內半導體製造技術，儘管中國半導體製造技術仍落後全球頂尖大廠至少二到三代製程。
全球三大半導體廠的台積電、英特爾和三星電子，已分別向ASML訂購高階EUV，台積電今年訂單高達十台，三星電子約六台，英特爾約三台，格羅方德也向ASML訂購一台；ASML上個月發布財報表示，今年預計將出貨廿台EUV，但未公布訂戶名單。
ASML表示，公司對全球各地包括中國客戶一視同仁，根據「瓦聖納協議」，對中國客戶出售EUV並無限制。
瓦聖納協議》管制敏感科技 輸往威權國家
「瓦聖納協議」是世界主要的工業設備和武器製造國在1996年簽署，目的在管制常規武器和軍民兩用等敏感技術輸往中國、北韓及伊拉克等威權國家，目前共有美國、日本、英國、俄羅斯、荷蘭等40個成員國締約。
「瓦聖納協議」規定成員國自行決定是否發放敏感產品或技術的出口許可證，並在自願基礎上向其他成員國通報有關訊息，但實際上由美國主導；例如2004年捷克擬向中國出口「無源雷達設備」時，美國就向捷克施加壓力，迫使捷克停止這項交易。
近來中日媒體報導，中國兩大半導體業者已從荷蘭艾司摩爾（ASML）取得兩台高階EUV微影機台，突破「瓦聖納協議」封鎖；但先前ASML中國區總裁金泳璇接受訪問時強調，EUV並非管制項目，要進口到中國完全沒有任何問題。（編譯盧永山）
小辭典》EUV微影機 跨入5奈米關鍵
EUV（Extreme Ultraviolet，極紫外線）微影機又稱為光刻機或曝光機，原理就像是照相機，將電路圖經過EUV，投射到塗滿光敏膠的矽片（就像是底片），蝕刻掉一部分膠，露出矽面做化學處理來製造晶片，過程得重複幾十次；EUV的鏡頭是由20多塊大鏡片串聯組成，鏡片得做到均質，才能達到高純度透光及拋光；艾司摩爾（ASML）的鏡片是由蔡司技術打底，花了數十年技術累積。
目前半導體製程的主流光源是氬氟雷射，波長為193奈米，但隨著電晶體微縮到20奈米、甚至10奈米以下，就像用一支粗毛筆寫蠅頭小字，加工越來越困難，而極紫外線的波長僅13.5奈米，被視為是半導體先進製程可微縮到5奈米以下的重要關鍵設備。（記者高嘉和）
