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〔記者洪友芳／新竹報導〕晶圓代工大廠台積電 （2330）從40奈米製程起，技術遠拋開聯電（2303），28、20到16奈米製程持續締造營運高峰，到今年第3季這三代製程合佔營收近一半，10奈米製程更可望超越英特爾，台積電研發副總經理、同時也是中研院院士的林本堅）是協助技術突破的大功臣，他將於11月1日功成身退，從台積電退休，專心傳教。
林本堅現年73歲， 台大電機系畢業後，赴美國俄亥俄州立大學攻讀電機工程學系博士，隨後到全球知名大廠IBM的研發中心工作，22年期間，他帶領研發團隊創造出許多世界第一的技術，包括1微米、0.75微米、0.5微米的光刻技術，也是首位研發出深紫外線（DUV）的專業者。從IBM退休後，林本堅曾在美國自行創業，但在張忠謀倚賴的研發老將蔣尚義的一通電話邀請，林本堅於2000年加入台積電，並在2002年研發出浸潤式（Immersion）微影技術，讓台積電一口氣跳躍成長好幾代技術，此項技術對全球半導體產業及台積電先進製程貢獻極大。
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