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〔記者洪友芳／新竹報導〕全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾 （ASML） 今日宣佈接獲一家美國主要客戶的訂單，採購逾15台EUV極紫外光微影系統，其中有2台NXE型號3350B 預計於2015年底前完成出貨，業界推測這家客戶應是英特爾（Intel）。
ASML指出，該客戶預計將EUV微影系統用於未來先進製程中，支援其新世代產品的研發和試產。到2015年第一季為止，ASML統計累積出貨8台NXE3300B EUV系統，其中台積電（2330）去年11月下單2台NXE3350B EUV系統將於今年完成出貨，已經出貨到台積電的2台NXE3300B EUV系統也將升級到新一代的NXE3350B。
艾司摩爾是全球晶片微影設備市場領導廠商，ASML總裁暨執行長溫彼得 （Peter Wennink） 表示，EUV現在已經接近量產階段，在長期規劃和周邊支援系統（ecosystem） 的準備方面，EUV獲得半導體業界的強力支持，預料這將啟動全球半導體產業的另一波技術創新。
ASML指出，EUV 極紫外光微影技術是半導體製程微縮的重要曝光技術，相較於目前先進製程所使用的浸潤式（immersion）微影技術，EUV的好處是能夠簡化先進製程的製造工序，同時達到提升良率和縮短生產時間的效益。
EUV紫外光微影設備攸關10奈米的量產進度，市場估計每台價格達數千萬美元。
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