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台積電位於南科的5奈米製程新廠工程進度飛快。（記者洪友芳攝）
極紫外光（EUV）微影製程，被半導體產業視為「救世主」，因為目前半導體製程的主流光源是氬氟雷射，波長為193奈米，當電晶體尺度已微縮到幾十奈米時，生產起來力不從心，但極紫外光的波長僅有13.5奈米，能夠讓摩爾定律再延伸至少10年。透過EUV 製程，5G 晶片組可減少佔用空間、增加電池續航力，有助提高產品體積薄小化設計。
（記者洪友芳）
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