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矽智財（IP）廠商力旺（3529）今日宣佈，NeoFuse技術於16奈米鰭式電晶體製程平台成功完成驗證。圖為力旺董事長徐清祥。（記者洪友芳攝）
〔記者卓怡君／台北報導〕矽智財（IP）廠商力旺（3529）今日宣佈，其單次可程式 （One-Time Programmable, OTP）NeoFuse技術於16奈米鰭式電晶體（Fin Field-Effect Transistor，FinFET）製程平台成功完成驗證，並在今年度完成矽智財開發和導入客戶應用，28奈米方面亦已佈建於台灣、美國、中國地區多家晶圓代工廠之多晶矽氮氧化矽（Poly SiON）與高介電金屬閘極（High-K Metal Gate，HKMG）製程平台並進入量產階段，量產效益將持續擴張。
NeoFuse技術已於多家國際級晶圓代工廠之0.11微米、65奈米、55奈米、40奈米與28奈米的邏輯、高壓（High-Voltage，HV）、低電（Low-Power，LP）、超低電（Ultra-Low Power，ULP）等製程平台完成佈建並進入量產，並獲多家客戶採用，嵌入設計於影像感測晶片、影像訊號處理器（Image Signal Processor，ISP）、感測器中樞（Sensor Hub）、微機電控制晶片（MEMS Controller）、安全微控制器（Security Microcontroller Unit，Security MCU）與DRAM修護（DRAM Repair）等應用領域。
NeoFuse矽智財應用範疇廣泛涵蓋程式碼儲存（Code Storage）、加解密碼儲存（Code Encryption）、身份識別（Identification）以及電路調校（Analog Trimming）等。透過晶片內建NeoFuse，其獨特的反熔絲結構與讀寫技術能提供安全金鑰 （Security Key），可於資料寫入後進入唯讀保護模式，防護晶片內儲存之資料受到破壞及竄改，其資訊安全防護等級更已獲得CA認證。
力旺表示，其獨特的嵌入性非揮發性記憶體矽智財，具備能經由特殊線路設計達成超低電壓讀取的特性，可於系統功能啟動前即提供韌體與晶片之間的身份辨識功能，強化資訊保護，為重視資料安全如物聯網與智慧家庭等應用，提升產品附加價值。
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